信越化学の半導体材料の歴史　1960年に高純度シリコン、2001年に300mmウエハーを商業生産

信越化学工業は、半導体のシリコンウエハーと、塩化ビニル樹脂の両方を大きな事業に持つ化学会社です。会社の沿革を半導体の材料に絞って読むと、1960年のシリコンから始まり、80年代以降は露光の工程で使う材料を1つずつ足してきたことがわかります。

肥料の会社からシリコンへ

会社の沿革によると、信越化学は1926年に信越窒素肥料として発足しました。1927年に直江津工場でカーバイドと石灰窒素の製造を始め、1940年に信越化学工業に社名を変えました。1949年に東京証券取引所に上場しています。

シリコンとの関わりは、1953年のシリコーンの工業生産から始まりました。1960年には高純度シリコンの製造を始め、同じ年に信越ポリマーを設立しています。

ウエハーの拠点を海外へ

ウエハーの事業は、子会社の信越半導体（SEH）が担います。沿革には、早い時期から海外に拠点を置いた記録が並びます。

信越化学グループの半導体シリコンの主な節目

年	出来事
1960年	高純度シリコンの製造を始める
1973年	マレーシアにS.E.H.マレーシア社を設立
1979年	米国にシンエツハンドウタイ・アメリカ社を設立
1984年	白河工場が完成。英国にヨーロッパ社を設立
1995年	台湾にシンエツハンドウタイ台湾社を設立
2001年	300mmのシリコンウエハーの商業生産を始める
2024年	三益半導体工業を完全子会社に

出典は信越化学工業の沿革。

露光の工程の材料を足す

回路の模様をウエハーに写す露光の工程では、原版のフォトマスク、その上に張る防塵用の膜、ウエハーに塗る感光材料が使われます。信越化学は、この工程の材料を順に手がけてきました。

• 1979年：ICのマスク用の合成石英基板の製造を始めています。
• 1994年：フォトマスクにほこりが付くのを防ぐカバー（ペリクル）を開発しました。
• 1998年：フォトレジストを事業にしています。
• 2007年：凸版印刷と最先端のフォトマスクブランクスを共同で開発しました。
• 2016年：福井県越前市の池ノ上分工場の中に、フォトマスクブランクスの工場が完成しています。
• 2024年：群馬県伊勢崎市に、半導体の露光材料の4つ目の生産拠点となる工場を建てると発表しました。

新しい基板の開発も進めています。2020年に窒化ガリウム（GaN）基板の開発を本格化し、2023年には沖電気工業と組んでGaNのパワー半導体に向けたQST基板の事業を進めると発表しました。2024年には、GaNを300mmにするためのQST基板を開発しています。

いまの電子材料

2026年10月27日の決算説明会で、会社は電子材料の生産がフル稼働していると説明しました。AI関連の市場の広がりが需要を引っ張り、ほかの分野もおおむね回復しているとしています。ウエハー以外の電子材料の製品でも、値上げに取り組んでいます。2027年3月期の純利益の予想は5250億円で、年間の設備投資の予想は3800億円に変えました。