フォトマスクとは　回路の模様を描いた原版、DNPは先端品が増える

フォトマスクは、半導体の回路の模様を描いた原版です。露光の工程で、光をこの原版に通し（EUVでは反射させ）、レンズや鏡で縮めてウエハーの上のレジストに写します。露光装置に載せる原版の別名は「レチクル」です。1つのチップを作るには、層ごとに別のマスクが要ります。

ブランクスに模様を描く

多くのマスクは、平らな石英ガラスの板に、光を通さない金属の膜を付けた「マスクブランクス」から作ります。ブランクスにレジストを塗り、電子線などで回路の模様を描き、現像して膜を削れば、模様の部分だけ光を通す原版の完成です。最後に欠陥がないか検査し、ほこりを防ぐ膜（ペリクル）を張って出荷します。

ASMLによると、EUV装置は光を通すレンズではなく多層の鏡を使い、マスクの模様を4分の1に縮めて写します。EUVのマスクも光を通すのではなく、光を反射させる作りです。

作っている会社

半導体メーカーには、自社でマスクを作る会社と、外の専業から買う会社があります。日本で外販を手がける大手はDNPとテクセンドフォトマスクで、テクセンドは自社を外販の市場の主要な会社と説明しています。テクセンドフォトマスクは、TOPPAN（旧凸版印刷）から2022年4月に分かれて事業を始め、2025年10月に東京証券取引所に上場しました。拠点は世界に9か所です。

フォトマスクに関わる日本の会社の2026年の数字

会社	対象	期間	数字
DNP	エレクトロニクス部門の売上高	4〜9月	1,437億円（+16.1%）
DNP	同部門の営業利益	4〜9月	319億円（+19.7%）
HOYA	半導体向け（LSI）の売上収益の伸び	7〜9月	+20%

DNPのエレクトロニクス部門には、有機ELパネル用のメタルマスクや光学フィルムも含みます。HOYAは前年同期比、為替を除くと+18%。

先端品が増える

DNPは、4〜9月に半導体用のフォトマスクで先端品が増え、量の多い汎用品も堅調だったと説明しています。今後はEUV用のマスクやナノインプリントなど、最先端の分野に力を入れる方針です。HOYAは、AI向けの需要で先端半導体向けのEUVブランクスが堅調だとし、欠陥の少ない品や位相シフトマスク用の品の販売を増やしています。High-NA EUV向けの12インチの大きなマスクのブランクスの実現にも取り組んでいます。

関連する用語

• ペリクル：マスクにほこりが付かないように張る薄い膜。
• 位相シフトマスク：光の位相をずらして、模様の輪郭をくっきりさせるマスク。
• 電子線描画：電子のビームで模様を描く技術。マスク作りに使います。