SOIウエハーとは　シリコンの下に酸化膜を挟む基板、ソイテックはAI向けが47%増

SOIウエハーは、回路を作るシリコンの薄い層の下に、電気を通さない酸化膜を挟んだウエハーです。SOIは「Silicon on Insulator（絶縁体の上のシリコン）」の頭文字です。下の層に電気が漏れにくいため、高い周波数の通信用の部品や、光で信号を送る部品などに使われます。

貼り合わせて、削る

SUMCOの説明では、支えになる基板と、回路を作る側の基板を用意し、片方か両方の表面に酸化膜を作ります。2枚を貼り合わせて熱を加え、回路を作る側を決まった厚さまで削って磨くのが次の手順です。必要に応じて、上の層にヒ素やアンチモンを広げた層も作ります。

フランスのソイテックは、別の方法を使います。会社の説明によると、元の基板に軽いイオンを打ち込み、別の基板に貼り合わせて、ごく薄い単結晶の層だけを移す方法です。層の厚さは打ち込むエネルギーで細かく決められます。層を渡した元の基板は、表面を整えて何度も使い回せます。この方法を「スマートカット」と呼び、ソイテックの登録商標です。

用途ごとに製品が分かれる

ソイテックは、用途ごとにSOIの製品を分けています。スマートフォンの高周波部品向けのRF-SOI、低い電力で動くチップ向けのFD-SOI、光で信号を送るチップ向けのフォトニクスSOIのほか、電力用、画像センサー用などがあります。

ソイテックの部門別の売上高（2026年4〜6月期、百万ユーロ）

部門	2025年4〜6月	2026年4〜6月	前年同期比
モバイル通信	43	39	-10%
エッジ・クラウドAI	44	65	+47%
自動車・産業	5	10	+108%
合計	92	113	+23%

ソイテックの会計年度は4月から翌年3月まで。2026年4〜6月期は2027年度の第1四半期です。部門の数字は四捨五入のため、合計と合わない場合があります。

AIデータセンターの光通信が伸びる

ソイテックによると、フォトニクスSOIの売上は前年同期の2倍になりました。AIデータセンターで使う高速の光トランシーバー向けです。シンガポールの300mmのSOI工場は、フォトニクスSOIの量産について最初の顧客の認定を受けました。会社は、2027年3月期のフォトニクスSOIの売上が、前の期の1億ドル強の2倍を超えると見込んでいます。

一方、スマートフォン向けのモバイル通信部門は10%減りました。自動車・産業部門は、顧客の在庫の調整が続く中で、低い水準から倍増しました。

関連する用語

• シリコンウエハー：SOIの元になる単結晶の円板。
• FD-SOI：上のシリコンの層をごく薄くし、少ない電力で動くトランジスタを作る方式。
• シリコンフォトニクス：シリコンの上に光の通り道を作り、光で信号を送る技術。

ソイテックは、2026年4〜9月期の決算を11月18日の取引終了後に発表する予定です。