トリケミカル研究所はどんな会社か 先端半導体の成膜材料で上期は18.8%増収、通期予想を上方修正
トリケミカル研究所は、半導体の製造で薄い膜をつくる工程に使う高純度の化学材料の専業メーカーです。2026年2〜7月期は台湾と中国の先端半導体向けが伸び、売上高は18.8%増の147億円と上期の過去最高になりました。
- 製品は、金属配線用(Metal)、高誘電率膜用(High-k)、エッチング用、その他のCVD用などの化学材料。
- 決算期は1月。2026年2〜7月期は売上高147億円、営業利益38億円、純利益34億円でした。
- 経常利益には持分法投資利益6.5億円が入っています。
- 通期予想を売上高270億円から295億円に、営業利益を60億円から74.5億円に上げました。
- 会社は、中国向けの売上は減ったものの期初の計画より強く、ロジック向けが好調だとしています。
トリケミカル研究所は、山梨県に拠点を置く化学材料のメーカーです。半導体のトランジスタや配線は、原子や分子の層を積み重ねる成膜でつくられます。CVD(化学気相成長)やALD(原子層堆積)と呼ぶ方法では、気体にした化学材料(プリカーサー)を装置に送り込み、ウェーハの表面で反応させて膜にします。同社はこの材料を高い純度でつくっています。2026年1月期の売上高は238億円、営業利益は59億円でした。
製品の区分
会社は、半導体向けの売上を用途ごとに次のように分けて示しています。
- Metal:配線やトランジスタの電極になる金属の膜の材料。
- High-k:トランジスタのゲートやメモリのキャパシタに使う、電気を蓄えやすい絶縁膜(高誘電率膜)の材料。
- Etch:膜を削るエッチングの工程の材料。
- 他CVD、Impla:そのほかの成膜材料と、イオン注入(Impla)の材料。
上期は、MetalとEtchを中心に好調でした。期初の計画との比較では、High-k材料が強く出ています。向け先ではロジック向けが好調で、メモリー向けとロジック向けはどちらも期初の計画を上回る見通しです。地域では台湾と中国の先端半導体向けが業績を押し上げました。国内向けの販売は振るわず、半導体以外の「その他」用途の計画未達の要因になっています。
上期の数字
| 項目 | 2025年2〜7月期 | 2026年2〜7月期 | 増減率 | 2026年2〜7月期の当初予想 |
|---|---|---|---|---|
| 売上高 | 123.8 | 147.1 | +18.8% | 137.0 |
| 営業利益 | 31.8 | 38.4 | +20.8% | 29.6 |
| 経常利益 | 38.0 | 45.3 | +19.1% | 30.9 |
| 純利益 | 27.8 | 33.7 | +21.5% | 21.9 |
出典は会社の決算説明資料と業績予想の修正の開示。
営業利益率は26.1%でした(計算)。経常利益が営業利益より大きいのは、持分法投資利益の6.5億円が入るためです。上期の営業キャッシュフローは48.8億円の収入で、有形固定資産の取得に29.7億円を使いました。長期借入金も増やしています。
通期予想の修正
会社は8月31日、半導体各社の旺盛な需要を理由に通期予想を引き上げました。
- 売上高:270億円 → 295億円(前期比23.5%増、計算)
- 営業利益:60億円 → 74.5億円
- 経常利益:63億円 → 87.2億円
- 純利益:46億円 → 65.7億円
下期の持分法投資利益は上期並みの6.4億円を想定し、為替は1ドル155円に変えました。上期の実績は、修正後の通期予想の売上高で49.9%、営業利益で51.5%に当たります。
財務の状態
7月末の総資産は491億円、純資産は382億円です。現金及び預金は1月末から28億円増え、7月末の現金及び現金同等物は101億円でした。長期借入金は18億円増え、固定負債は53億円になりました。上期は配当金の支払いに11億円を使っています。
今後の注目点
- 8〜10月期の第3四半期決算で、台湾と中国向けの伸びが続くか。
- 国内向けの販売の戻り。
- 能力増強の投資と借入金の推移。
この記事は公開資料をもとに作成しています。売買をすすめるものではありません。誤りを見つけたら訂正します(編集方針)。
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