ALD(原子層堆積)とは 2種類の原料を交互に流して1層ずつ積む
ALDは、原料のガスを交互に流し、原子1層分ずつ膜を積む方式です。材料のトリケミカル研究所では、ALDなどで使うHigh-k向けの材料が上期の売上147億円の約半分を占めました。
半導体の成膜工程で使う高純度の化学材料(プリカーサー)を作る。先端のロジックやメモリーの絶縁膜・電極膜の材料が主力。韓国のSK Tri Chemと台湾などに関係会社を持つ。決算期は1月。
| コード | 4369 |
|---|---|
| 上場 | 東証プライム |
| 本社 | 山梨県上野原市 |
| 分野 | 材料・ウエハー |
| 決算期末 | 1月 |
| 配当(会社予想) | 年間 1株35円(2027年1月期予想、期末のみ) |
| 発行済株式数 | 3,250万株(2026年7月末、自己株式を含む) |
| 主な製品 | 半導体の成膜用材料(High-k材料などのCVD・ALD用プリカーサー)、エッチング用材料 |
ALDは、原料のガスを交互に流し、原子1層分ずつ膜を積む方式です。材料のトリケミカル研究所では、ALDなどで使うHigh-k向けの材料が上期の売上147億円の約半分を占めました。
トリケミカル研究所の2026年2〜7月期の営業利益は38億円で、前年同期から20.8%増えました。台湾と中国の先端半導体向けの出荷が想定を上回り、会社は通期の売上高予想を270億円から295億円に上げました。
トリケミカル研究所は、半導体の製造で薄い膜をつくる工程に使う高純度の化学材料の専業メーカーです。2026年2〜7月期は台湾と中国の先端半導体向けが伸び、売上高は18.8%増の147億円と上期の過去最高になりました。