スパッタリングターゲットの市場、JX金属の薄膜材料事業は4〜9月に39%増収の935億円　通期予想を2000億円に上げる

半導体の配線や電極の膜を作るスパッタリングでは、元になる金属の板「ターゲット」を消耗品として使います。ターゲットの大手、JX金属は11月9日、ターゲットなどを含む薄膜材料事業の2026年4〜9月の売上高が935億円となり、前年同期より39%増えたと発表しました。

削れて減る「元の板」

スパッタリングの装置の中では、真空にした部屋にアルゴンなどのガスを入れ、電圧をかけて作ったイオンをターゲットにぶつけます。ターゲットの表面からはじき出された金属の原子が、向かい合ったウエハーの上に積もって薄い膜になります。ターゲットは使うほど削れ、一定の厚さまで減ると交換します。

ターゲットに求められるのは、純度の高さに加え、結晶の粒の大きさや向きがそろっていることです。粒がばらつくと、膜の厚さがウエハーの場所によって変わってしまいます。銅、タンタル、チタン、コバルト、タングステン、アルミニウムなど、膜の種類ごとに別のターゲットを使います。最先端のロジックやHBMは配線の層が多く、1枚のウエハーに使うターゲットの量も増えます。

JX金属の半導体材料セグメント

JX金属の半導体材料セグメント（2026年4〜9月、億円）

事業	売上高	前年同期比	営業利益	前年同期
薄膜材料	935	+39%	335	185
タンタル・ニオブ	262	+14%	21	10
セグメント合計	1,109	+33%	361	190

出典：JX金属「2027年3月期 第2四半期 決算説明資料」（2026年11月9日）。合計には調整額を含む。

会社の分析では、薄膜材料の営業利益の増加150億円は、数量の増加、為替の円安、販売単価の改善と米国の関税の影響の反転などで説明されています。会社は、AIデータセンター関連の需要の拡大で主力製品の販売が増え続けていると説明しています。

通期は2000億円の予想

JX金属は11月9日、薄膜材料事業の通期の予想を上げました。売上高は8月の1900億円から2000億円に、営業利益は580億円から670億円にしました。理由として、AIデータセンター関連の需要の拡大による販売の増加、半導体用ターゲットなどの販売単価の改善、中東の情勢の影響が和らいだことを挙げています。下期（10月〜27年3月）の営業利益は335億円前後（計算）で、上期と同じ水準の見込みです。

ターゲットの市場には、JX金属のほか、米ハネウェル、米マテリオン、日本のアルバックや東ソーなどが参入しています。米マテリオンの電子材料部門も、2026年7〜9月の半導体向けの売上が四半期で過去最高だったと発表しています。

今後の注目点

• JX金属は、AIデータセンター向けの最先端ロジックとHBMの需要の増加に合わせ、半導体用ターゲットの生産能力の増強を続ける計画です。
• キャパシタ向けのタンタル粉末などのタンタル・ニオブ事業の通期の予想は、売上高600億円、営業利益50億円です（8月の予想は550億円、30億円）。