中国のレアアースの輸出管理、国外でつくった製品にも価値0.1%以上で許可を求める　14ナノ以下・256層以上の半導体用途は個別審査、実施は2027年1月10日まで停止

中国は、米国の半導体の輸出規制に対し、レアアースの輸出管理で対抗してきました。2025年10月9日に出した商務部公告2025年第61号は、中国国外でつくられた製品にまで許可を求める点で、それまでの措置と性格が違います。この公告は現在、実施が止まっていますが、停止の期限は2027年1月10日です。

公告第61号の仕組み

公告は、国外の組織や個人を「国外特定輸出事業者」と呼び、次の3種類の品目を中国以外の国へ輸出する前に、中国商務部の許可を取るよう求めます。

商務部公告2025年第61号で許可が必要になる品目

区分	中身	実施日（当初）
（一）	中国産の附属書1第1部の品目を含み、その価値の比率が0.1%以上の、国外で製造した第2部の品目	2025年12月1日
（二）	中国由来のレアアースの採掘・分離・磁石製造などの技術を使い、国外で生産した附属書1の品目	2025年12月1日
（三）	中国産の附属書1の品目そのもの	公布の日

出典：商務部公告2025年第61号（2025年10月9日、香港特別行政区政府工業貿易署の通知に転載）。

附属書1の第1部には、金属のサマリウム、ジスプロシウム、ガドリニウム、テルビウム、ルテチウム、スカンジウム、イットリウムと、それらの合金・酸化物の13品目が並びます。第2部は、レアアースの永久磁石と、レアアースのターゲット材です。

半導体の材料に関わる部分

第2部のターゲット材には、サマリウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ルテチウム、スカンジウム、イットリウムを含むものが入っています。スカンジウムやイットリウムのターゲットは、スパッタリングで薄い膜をつくるのに使う材料です。日本ではJX金属などがスパッタリングターゲットを手がけています。

用途の審査も半導体を名指ししています。最終の用途が、14ナノ以下のロジックや256層以上のメモリーの研究開発・生産、それらをつくる製造装置・検査装置・材料、軍事に使われうるAIの研究開発である場合は、個別に審査するとしました。軍事の利用者や、中国の管理名簿に載った企業（その50%以上の子会社を含む）への輸出は、原則として許可しません。

許可を申請する時の書類は中国語が正となります。国外の事業者は、品目を次の相手に渡すたびに、中国産のレアアースの価値の比率を書いた「コンプライアンス告知書」を出す必要があります。

停止の経過

レアアース関連の公告の実施の停止

日付	出来事
2025年10月9日	商務部が公告第61号（国外のレアアース関連品目）と第62号（レアアース関連技術）を公布
2026年11月9日	商務部・税関総署の公告2026年第58号で、上の6本の実施の停止を延長
2026年11月11日〜2027年1月10日	停止の期間

出典：商務部・税関総署公告2026年第58号（2026年11月9日）。

停止の対象は、第61号と第62号に、2025年の商務部・税関総署の公告第55〜58号を加えた6本です。2026年第58号は、停止の理由を示していません。

今後の注目点

• レアアース関連の6本の公告の停止は2027年1月10日に期限を迎えます。
• 2024年第46号公告の対米輸出の規定（ガリウム・ゲルマニウムなど）の停止は、2025年第72号公告で2026年11月27日までとされています。