マイクロン広島工場に約1.5兆円、国の助成は最大5000億円　キオクシア北上は2兆円投資

AI向けのメモリの需要が膨らむなか、日本にあるメモリ工場の拡張が進んでいます。政府が7月31日に定めた広島県内の半導体の戦略産業クラスター計画によると、米マイクロン・テクノロジーは東広島市の工場を約1.5兆円で拡張し、生成AIや自動運転などに向けた次世代のメモリを量産します。

マイクロン広島、日本唯一の先端DRAM拠点

計画は、マイクロンの広島工場を日本で唯一の先端DRAMの製造拠点で、開発の機能も持つと位置づけています。投資の時期は、2028年6〜8月に初回出荷、2030年3〜5月に継続生産の開始を予定しています。国は次世代DRAMの生産施設の整備に、特定半導体の基金から最大5000億円を支援します。エッジ向けのAIメモリの設計・製造技術の開発にも、ポスト5Gの基金から最大360億円を出します。

広島県の計画全体では、2026〜2040年の官民の設備投資の累計3.2兆円を目標に掲げました。工場の周辺にはディスコやローツェなど90社以上の半導体関連の会社があります。工業用水の不足に備え、太田川から吉川工業団地へ日量2万6000立方メートルの工業用水を送る事業を2026年度までに進めます。

キオクシア北上、3次元NANDの拠点

東北（岩手）の計画は、キオクシア岩手の北上工場を中核に据えます。北上工場には2019年と2022年に計約2兆円が投じられ、3次元のNAND型フラッシュメモリの生産施設が整えられました。計画は、同社がさらなる投資を表明しており、投資の継続が期待できるとしています。

キオクシアは2024年2月、四日市工場と北上工場で第8世代と第9世代の3次元フラッシュメモリの生産能力を広げる計画について、経済産業省の認定を受けました。助成の上限は1500億円です。岩手県の計画は、2040年までの官民の設備投資を約1兆2700億円とする目標を掲げています。北上市では、工業用水を日量約4万立方メートル増やす浄水場の工事が2026年度までの予定で進んでいます。

広島と岩手のメモリ工場と国の支援

項目	マイクロン（広島）	キオクシア（岩手）
投資の規模	約1.5兆円	約2兆円（2019年・2022年の計）
国の助成の上限	5000億円	1500億円（四日市と合わせて）
地域の計画の官民投資の目標	3.2兆円（2026〜2040年）	約1兆2700億円（2040年まで）

出典：内閣官房「半導体 戦略産業クラスター計画（広島県内地域）の概要」「AI・半導体 戦略産業クラスター計画（東北地域）の概要」（2026年7月31日）、キオクシア「特定半導体生産施設整備等計画の認定について」（2024年2月6日）。

どちらも人材の不足が課題

両地域の計画は、人材の不足を課題に挙げました。広島の計画は、中国地域で2033年に年間約1600人の半導体関連の人材が足りなくなるとの試算を示しています。広島大学の半導体のプログラムの新設や定員増、福山市立大学の新学部などで、2026〜2040年に累計4500人を育てる目標です。岩手の計画は、フィジカルAIの専門人材が2040年までに約4800人不足するとみて、4780人を育てる目標を掲げました。

今後の注目点

• マイクロン広島の次世代メモリの初回出荷は2028年6〜8月の予定です。
• キオクシアの追加投資の規模と時期が焦点です。