EUVとは　レンズの代わりに100層超の鏡、マスクも光を反射させて使う

EUV（Extreme Ultraviolet、極端紫外線）は、波長13.5ナノメートルの光です。最先端のロジックやDRAMの回路を写す露光に使います。露光装置の仕組み全体や光源は「EUV露光とは」の記事で扱いました。ここでは、光を運ぶ鏡と、光を反射させるマスクの側から見ます。

レンズの代わりに鏡

DUVの露光装置は、ガラスのレンズで光を集めます。EUVの光はガラスに吸収されてしまうため、この方法は使えません。ASMLのEUV装置は、レンズの代わりに多層の膜を重ねた鏡を何枚も使い、マスクの模様を4分の1に縮めて写します。

ASMLによると、EUVの鏡は、反射を最大にするため100層を超える材料の膜を重ねています。鏡の表面は原子1個分より薄い凹凸に磨きます。鏡をドイツの国土の大きさに広げても、最も高い「山」は1ミリメートルにしかならない平らさです。ASMLの光学系は、1980年代の終わりからドイツのツァイスが作っています。

マスクも反射させる

EUVでは、回路の模様を描いたフォトマスクも光を通さず、反射させて使います。AGCの説明では、EUV用のマスクの元になるブランクスは、熱でほとんど伸び縮みしないガラスの板に、何種類もの光学の膜を付けたものです。この上に回路の模様を描きます。

膜の小さな欠陥も、ウエハーに写る模様に響きます。このため、ブランクスやマスクの欠陥を調べる検査も、マスク作りの大事な段階です。日本ではレーザーテックが、マスクやブランクスの検査装置を手がけています。

EUVの鏡とマスクに関わる会社

部品・材料	会社	会社が示す数字・説明
鏡を含む光学系	ツァイス	1980年代の終わりからASMLの全装置の光学系を供給
EUV用マスクブランクス	HOYA	半導体向け（LSI）の売上収益は2026年7〜9月に前年同期比20%増
EUV用マスクブランクス	AGC	2025年までに能力を約3割増やす計画（2023年発表）

需要の動き

HOYAは、AI向けの需要で先端半導体向けのEUVブランクスの需要が堅調だとしています。欠陥の少ない品や、位相シフトマスク用の品の販売を増やしています。AGCは、ガラスの材料から膜付けまでを自社でできる唯一のEUVブランクスのメーカーだと説明し、2023年に福島県郡山市の子会社で能力の増強を決めました。

ASMLの2026年1〜6月の販売は、NAが0.33の従来型のEUV装置が29台で67億850万ユーロ、NAが0.55のHigh-NA装置が3台で11億8,890万ユーロでした。前年同期は合わせて25台です（計算）。

関連する用語

• High-NA：EUV装置の開口数を0.55に上げた次の世代。
• マスクブランクス：回路の模様を描く前のフォトマスクの板。
• EUVペリクル：EUVのマスクを守る、ごく薄いほこりよけの膜。