国際的な輸出管理の枠組み「ワッセナー」 参加42か国は全会一致、2025年の総会は半導体の項目を3つ削除
ワッセナー・アレンジメントは、軍事に転用できる品目の輸出管理を42か国が共通の品目表で行う枠組みです。決定は全会一致で、2025年12月の総会では電子の分野（第3類）で3つの項目を削り、電池の基準を1kgあたり350Whから500Whに上げました。
ASMLASML Holding
半導体の回路を焼き付ける露光装置の最大手。最先端のEUV露光装置を供給できる唯一の会社。主な顧客はTSMC、サムスン電子、インテルなど。
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決算の推移
| 期間 | 売上 | 前年比 | 営業利益 | 前年比 | 出典 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2026年7〜9月期 | 117億ユーロ | +55.2% | 51.7億ユーロ | +109.6% | 資料 |
| 2026年4〜6月期 | 93.3億ユーロ | — | 34.6億ユーロ | — | 資料 |
| 2026年1〜3月期 | 87.7億ユーロ | — | 31.6億ユーロ | — | 資料 |
| 2025年10〜12月期 | 97.2億ユーロ | — | 34.3億ユーロ | — | 資料 |
会社の概要
| コード | ASML |
|---|---|
| 上場 | ユーロネクスト・アムステルダム／NASDAQ |
| 本社 | オランダ・フェルトホーフェン |
| 分野 | 前工程装置 |
| 決算期末 | 12月 |
| 配当（会社予想） | 2026年の中間配当 1株 €1.88（2026年11月4日支払い）。年間の予想は出していない |
| 発行済株式数 | 3億8,541万7,665株（2025年12月31日時点、年次報告書20-F） |
| 主な製品 | 露光装置（EUV・DUV） |
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ASMLの成り立ち 1984年にフィリップスとASMIの合弁で発足、2020年にEUVが量産へ
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ASMLの2026年1〜9月の露光装置の販売台数は291台で、このうち25台が中古でした。中古の比率は8.6%（計算）で、四半期ごとに12台、5台、8台と増減しています。
塗布現像装置の市場 東京エレクトロンが首位、EUV向けは同社推定で100% 新規装置売上の28%
塗布現像装置は、ウエハーにレジストを塗り、露光した模様を現像する装置で、露光装置とつないで使います。東京エレクトロンは市場シェアを首位とし、2026年3月期の新規装置の売上の28%を塗布現像装置が占めました。
日本の露光装置の歴史（ニコン・キヤノン） 1970年の国産初号機から半世紀、キヤノンは2026年に221台を見込む
キヤノンは1970年に国産初の半導体露光装置「PPC-1」を発売し、ニコンは1980年に国産初のステッパー「NSR-1010G」を発表しました。2026年の販売台数の見通しは、キヤノンが221台、ニコンが2027年3月期に新品23台です。
外国直接製品規則（FDPR）とは 2024年12月に製造装置向けを新設、日本とオランダなど33か国は一部の対象外
外国直接製品規則（FDPR）は、米国の技術で作った外国製品にも米国の輸出規制を及ぼす規則です。米商務省は2024年12月、先端の半導体の製造装置向けに2つの規則を新設し、日本とオランダを含む33か国を一部の許可の要件から外しました。
前工程装置の市場とは ウエハーに回路をつくる装置を米日欧の数社が分け合う
前工程装置は、ウエハーに回路を焼き付け、削り、膜を重ねる装置の総称です。東京エレクトロンは10月30日、前工程装置の2026年の世界市場を1600億ドル程度と見積もりました。
レチクルサイズとは 露光装置が1回で写せる範囲、1個のチップの大きさの上限を決める
レチクルサイズは、露光装置が1回で写せる範囲の大きさで、チップの面積の上限になります。ASMLの次の世代のHigh-NA EUV装置では、この範囲の片方の辺が33ミリから16.5ミリと半分になります。
微細化の限界とは トランジスタを小さくするほど増える4つの壁と、各社の乗り越え方
微細化の限界は、トランジスタを小さくするほど性能を上げにくく、費用が増える問題の総称です。TSMCの公表値では、N7はN16の3倍の論理回路の密度でしたが、2nmの改良版N2Pは3nmのN3Eの1.2倍にとどまります。
ネオンガスとは ギガフォトンはArFレーザー向けに回収率50%の装置を開発
ネオンガスは、露光装置の光源のエキシマレーザーで使う希ガスです。レーザー大手のギガフォトンは2026年9月、ArFレーザーで使ったネオンの50%を回収して再利用できる装置を開発したと発表しました。
計算リソグラフィとは CPU4万台分の計算をGPU350台で、TSMCが量産に採用
計算リソグラフィは、露光の写り方をコンピューターでまね、マスクと照明を最適化する技術です。NVIDIAによると、同社のGPUのシステム350台で、CPUのシステム4万台分の計算をこなせます。
OPC（光近接効果補正）とは 写るときのゆがみを先回りしてマスクを補正、1組で3,000万CPU時間
OPCは、露光で模様が設計どおりに写らない分を見込んで、マスクの模様を補正する技術です。NVIDIAによると、チップ1つ分のマスクの組の計算に3,000万CPU時間以上かかることがあります。
マルチパターニングとは 1つの層を2回、4回に分けて写し、露光の限界を超える
マルチパターニングは、1つの層の模様を2回、4回と分けて作り、露光装置の解像度より細かい回路を得る方法です。ASMLは、EUVで1回の露光に置き換えればマスクと工程の数を減らせると説明しています。
EUVとは レンズの代わりに100層超の鏡、マスクも光を反射させて使う
EUVは波長13.5ナノメートルの極端紫外線で、レンズを通らないため、露光装置は100層を超える膜を重ねた鏡で光を運びます。ASMLは2026年1〜6月に、EUV装置を32台販売しました（計算）。
High-NAとは 開口数0.55のEUV、ASMLは上期に3台・11.9億ユーロを販売
High-NA EUVは、開口数（NA）を従来の0.33から0.55に上げたEUV露光装置で、解像度は8ナノメートルです。ASMLは2026年1〜6月に、High-NAの装置を3台、計11億8,890万ユーロ販売しました。
EUVペリクルとは 透過率92%超のCNT膜、三井化学は年5,000枚の設備
EUVペリクルは、EUV露光で使うフォトマスクを、ほこりから守る薄い膜です。三井化学は透過率92%以上のカーボンナノチューブ（CNT）のペリクルを、岩国大竹工場の年5,000枚の設備で作ります。
i線露光とは 水銀ランプの波長365ナノメートル、キヤノンは2026年に155台
i線露光は、水銀ランプの波長365ナノメートルの光を使う、古くからある露光の方式です。キヤノンは2026年に、半導体露光装置221台のうち155台をi線の装置で販売する見通しです。
KrF露光とは 波長248ナノメートルの光、キヤノンは2026年に66台を販売へ
KrF露光は、波長248ナノメートルのKrFエキシマレーザーの光を使う露光です。キヤノンは2026年に、KrFの露光装置を66台販売する見通しです。
ArF液浸露光とは 水の層でNAを1を超える1.35に、解像度は38ナノメートル
ArF液浸露光は、レンズとウエハーの間に水の層を入れ、開口数（NA）を1.35まで上げた露光の方式です。ニコンの最新機は解像度38ナノメートル以下で、1時間に280枚以上を処理します。
フォトリソグラフィとは 光で回路を写す工程、細かさは「波長÷NA」で決まる
フォトリソグラフィは、光に反応する薬剤を塗ったウエハーに、マスクを通した光で回路の模様を写す工程です。ニコンの資料では、半導体露光装置の世界の市場は2026年に580台の見通しです。
ASMインターナショナル、7〜9月期の売上11億5940万ユーロで45%増 2030年目標を3年前倒しの見通し
半導体の成膜装置を手がけるオランダのASMインターナショナルの2026年7〜9月期の売上は11億5940万ユーロで、前年同期比45%増えました。最先端のロジック・受託生産向けが伸びの中心で、メモリー向けも広帯域メモリー（HBM）用のDRAMで増えました。
ASMインターナショナル ALD装置の大手、7〜9月期の売上11億5,940万ユーロで45%増
オランダのASMインターナショナルは、半導体の前工程で薄い膜を作る成膜装置を作る会社です。2026年7〜9月期の売上は11億5,940万ユーロで、前年同期比45%増えました。
半導体の地政学 輸出規制はどこを止め、何が動いたか
米商務省は2022年10月7日、中国向けの先端半導体と製造装置の輸出規制を大きく強めました。日本の半導体製造装置の輸出に占める中国向けの比率は、2026年1〜9月に36.0%と、前年同期の43.0%から下がっています（計算）。
半導体の決算の読み方 受注・BBレシオ・在庫で先を読む
半導体の決算は、売上と利益だけでなく、受注や在庫を見ると先の動きが読みやすくなります。マイクロンは6〜8月期末の在庫日数が129日で、前期より9日増えたと説明しました。
2nmとGAA トランジスタを四方から囲む最先端の世代
TSMCの2nmの世代は、ナノシート型と呼ぶ新しいトランジスタを使い、2025年10〜12月期に量産を始めました。2026年7〜9月期には、2nmがウエハー売上の8%を占めています。
EUV露光とは 波長13.5ナノメートルの光で微細な回路を写す
EUV露光は、波長13.5ナノメートルの光で最先端の回路をウエハーに写す技術です。ASMLによると、光はスズの小さな粒にレーザーを当てて1秒に5万回つくります。
東京エレクトロンの中国向け売上比率、7〜9月は36.4%に上昇 通期は30%台前半の見通し
東京エレクトロンの7〜9月期の中国向け売上高は3399億円となり、売上高全体に占める比率は36.4%と前の期から6ポイント上がりました。同社は通期の中国比率を30%台前半と見込んでいます。
ASML、上期のHigh-NA EUV販売は3台・約11.9億ユーロ EUVの生産能力は2027年に3割増
オランダのASMLは、2026年1〜6月に次世代のHigh-NA EUV露光装置を3台、約11.9億ユーロ販売しました。従来型のEUVは29台で、2027年にはEUVの生産能力を3割増やす計画です。
半導体製造装置の世界販売、2026年は1659億ドルへ SEMIが23.2%増と予測
SEMIは、半導体製造装置の世界販売額が2026年に1659億ドルとなり、前年から23.2%増えるとの予測を出しました。2028年には2295億ドルまで伸び、5年続けて増える見通しです。
ASML 露光装置の大手、保守サービスが売上の28%
オランダのASMLは、半導体の回路をウエハーに焼き付ける露光装置を作る会社です。2026年7〜9月期は新品の装置を113台売り、売上は116億6,200万ユーロでした。
ASML、7〜9月期売上116億ユーロ 2027〜28年の供給は需要に届かず
オランダのASMLの2026年7〜9月期の売上は116億6,200万ユーロで、前期の93億2,600万ユーロから25%増えました。純利益は49億6,000万ユーロで、前期の1.7倍になりました（倍率は計算）。
インテル、7〜9月期売上165億ドル データセンター・AI部門78%増
インテルの2026年7〜9月期の売上は165億ドルで、前年同期より21%増えました。データセンター・AI（DCAI）部門の売上が73億ドルと78%伸び、全体を押し上げました。