i線露光とは　水銀ランプの波長365ナノメートル、キヤノンは2026年に155台

i線露光は、水銀ランプの光から波長365ナノメートルの成分を取り出して使う露光です。水銀ランプの光にはいくつかの強い波長があり、436ナノメートルを「g線」、365ナノメートルを「i線」と呼びます。レーザーを使うKrFやArFより前の世代の光です。

g線からi線へ

ASMLの説明では、g線の装置は1マイクロメートル（1,000ナノメートル）までの模様を写せました。紫外線のi線を使うことで1マイクロメートルより細かくなり、最終的に220ナノメートルまで写せるようになりました。東京応化工業は1987年にi線用のポジ型レジストを製品にしています。

今のi線の装置の多くは、1回で写す範囲を区切って、ウエハーを少しずつ動かしながら繰り返し写す「ステッパー」です。最先端の工程には使えませんが、細かさのそれほど要らない層に使われます。キヤノンは、200mm以下の基板でパワーデバイスなどを作る向けの低いNAのi線装置も出しています。

主なi線露光装置（各社の製品情報から）

会社	機種	NA	解像度	対応ウエハー
キヤノン	FPA-5550iZ2	0.57〜0.45	350nm以下	200mm・300mm
キヤノン	FPA-5520iV（後工程向け）	0.18〜0.15	1.5µm以下	300mm
ニコン	NSR-SF155	0.62	280nm以下	200mm・300mm
ニコン	NSR-2205iL1	0.45	350nm以下	150mm・200mm

ASMLのi線装置TWINSCAN XT:400Mは、重ね合わせの精度がウエハー全体で20nm以下としています。

先端パッケージでも出番

i線は、チップを作った後の工程でも使われます。キヤノンのFPA-5520iVは、チップを並べ直して樹脂で固めた基板に配線を写す装置です。種類の違うチップを1つのパッケージにまとめる用途を想定し、オプションで52mm×68mmの広い範囲を一度に写せます。解像度はオプションで0.8マイクロメートル以下にできます。

キヤノンの販売の7割

キヤノンの2026年の半導体露光装置の販売見通しは221台で、うちi線が155台、KrFが66台です。i線は全体の70%にあたります（計算）。7〜9月期のi線の販売は28台でした。ASMLの2026年1〜6月のi線の装置の販売は20台、1億1,310万ユーロで、前年同期の27台から減りました。東京応化工業は、g線・i線用のレジストで2025年の出荷量の世界シェアが25.3%で1位だとしています（富士キメラ総研の調査をもとに同社が計算）。

関連する用語

• ステッパー：区画ごとにウエハーを動かして繰り返し写す露光装置。
• KrF露光：i線の次の世代。波長248nmのレーザーを使います。
• 先端パッケージ：複数のチップを1つにまとめて、性能を上げる組み立ての技術。