PFASと半導体 水道水のPFOS・PFOAは2026年4月から基準50ng/L、川と地下水は629地点で指針値を超える
日本では2026年4月1日から、水道水のPFOSとPFOAの合計50ng/Lが法律上の「水質基準」になりました。2024年度の全国の測定では、川と地下水の3941地点のうち629地点で指針値を超えています。
東京応化工業Tokyo Ohka Kogyo
半導体の回路を描くフォトレジストの大手。EUVやKrF向けのレジストと、高純度の化学薬品を手がける。主な顧客は世界の半導体メーカー。
東京応化工業（4186）
決算の推移
| 期間 | 売上 | 前年比 | 営業利益 | 前年比 | 出典 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2026年7〜9月期 | 779億円 | +27.3% | 172億円 | +42.7% | 資料 |
| 2026年4〜6月期 | 726億円 | +26.6% | 138億円 | +37.2% | 資料 |
| 2026年1〜3月期 | 671億円 | +23.6% | 151億円 | +53.8% | 資料 |
| 2025年10〜12月期 | 642億円 | — | 155億円 | — | 資料 |
会社の概要
| コード | 4186 |
|---|---|
| 上場 | 東証プライム |
| 本社 | 神奈川県川崎市中原区 |
| 分野 | 材料・ウエハー |
| 決算期末 | 12月 |
| 配当（会社予想） | 1株 80円（2026年12月期予想） |
| 発行済株式数 | 1億2,780万株（2026年9月末、自己株式を含む） |
| 主な製品 | フォトレジスト・高純度化学薬品 |
この企業の記事
自治体の半導体の誘致 熊本県の立地協定は68件で投資予定1兆6828億円、北海道は補助の上限を15億円に拡充
熊本県がTSMCの進出公表後に半導体の関連企業と結んだ立地協定は、2025年8月末で68件、投資予定の総額は約1兆6828億円です。北海道は2025年4月に補助金の規則を改め、半導体の関連産業の補助の上限を15億円にしました。
韓国向けの製造装置と材料の売上、東京エレクトロンは7〜9月に44%増の1907億円 アプライドは8〜10月に49%増
東京エレクトロンの2026年7〜9月の韓国向け売上高は1907億円で、前年同期の1325億円から44%増えました（計算）。米アプライド・マテリアルズの8〜10月の韓国向けは18億1100万ドルで49%増でした（計算）。
半導体材料の値上げの動き 信越化学は契約外のウエハーを10月から値上げ、レゾナックの半導体材料は価格要因で158億円の増益
信越化学工業は、既存の契約の量を超える分や契約のない顧客向けのシリコンウエハーについて、10月から値上げした価格を適用しています。レゾナックは、半導体・電子材料の2026年1〜9月のコア営業利益の増加のうち158億円を販売価格の差と説明しました。
日本の半導体材料の世界シェア JX金属のスパッタリングターゲットは約65%、東京応化のEUVレジストは29.3%、テクセンドの外販フォトマスクは40.5%
JX金属は、半導体用スパッタリングターゲットの世界シェアを約65%としています。東京応化工業はEUV用レジストで29.3%、テクセンドフォトマスクは外販フォトマスクで40.5%と、いずれも世界1位を名乗っています。
材料メーカーの地域別売上を比べる 東京応化は台湾36%・TSMC向けが796億円、米インテグリスは台湾向けが7〜9月に40%増
東京応化工業の2025年12月期の売上高2370億円のうち、台湾向けは856億円で36%を占めました（比率は計算）。最大の顧客のTSMC向けは796億円で、1社で売上の3分の1にあたります（計算）。
東京応化、1〜9月で通期予想の72.5%を達成 10〜12月期は売上高825億円・営業益175億円が前提
東京応化工業の2026年1〜9月の営業利益460億円は、通期予想635億円の72.5%にあたります。予想から逆算すると、10〜12月期は売上高825億円、営業利益175億円で、7〜9月期の778億円、172億円を上回る前提です（計算）。
EUV・ArFレジストの増産競争、東京応化は郡山の新棟を11月に稼働 投資額は約230億円
東京応化工業は10月8日、郡山工場（福島県郡山市）にフォトレジストの新しい製造棟を完成させたと発表しました。投資額は約230億円で、2026年11月に稼働します。
有機インターポーザーとは レゾナックなど27社が515×510mmのパネルで試作へ
有機インターポーザーは、樹脂の絶縁材と銅の配線でチップどうしをつなぐ中継の板です。レゾナックは2025年9月、27社で515×510mmのパネルを使う試作ラインを作る枠組み「JOINT3」を立ち上げました。
i線露光とは 水銀ランプの波長365ナノメートル、キヤノンは2026年に155台
i線露光は、水銀ランプの波長365ナノメートルの光を使う、古くからある露光の方式です。キヤノンは2026年に、半導体露光装置221台のうち155台をi線の装置で販売する見通しです。
KrF露光とは 波長248ナノメートルの光、キヤノンは2026年に66台を販売へ
KrF露光は、波長248ナノメートルのKrFエキシマレーザーの光を使う露光です。キヤノンは2026年に、KrFの露光装置を66台販売する見通しです。
化学増幅型レジストとは わずかな光で生じた酸が触媒に、IBMが1980年に開発
化学増幅型レジストは、光で生じた少しの酸が触媒になり、周りの樹脂の性質を次々に変えるレジストです。米IBMの研究チームが1980年に最初の材料の開発に成功し、2013年に日本国際賞を受けました。
フォトレジストとは 光で溶け方が変わる薬剤、波長ごとに作り分ける
フォトレジストは、ウエハーに塗って光を当て、回路の模様を写し取るための薬剤です。東京応化工業は、2025年の出荷量でKrF用の世界シェアが33.3%、EUV用が29.3%だとしています。
インテグリス、7〜9月期の売上10億570万ドルで25%増 純化の部門が31%伸びる
半導体の製造に使う材料と、薬液やガスを清浄に保つ製品を手がける米インテグリスの2026年7〜9月期の売上は10億570万ドルで、前年同期比24.6%増えました。GAAPの希薄化後1株利益は1.03ドルで、前年同期の0.46ドルの2倍強でした。
半導体の材料 ウエハー・レジスト・ガスの役割
半導体の回路は、シリコンのウエハーの上に、光に反応するレジストや高純度のガスを使って作ります。先端品では、EUV（波長13.5ナノメートル）の光に合わせたレジストなど、材料にも新しい技術が要ります。
EUV露光とは 波長13.5ナノメートルの光で微細な回路を写す
EUV露光は、波長13.5ナノメートルの光で最先端の回路をウエハーに写す技術です。ASMLによると、光はスズの小さな粒にレーザーを当てて1秒に5万回つくります。
三井化学、フォトレジスト大手JSRを1兆8400億円で取得へ 日本の半導体材料で再編
三井化学は11月9日、フォトレジスト大手のJSRを取得価額1兆8400億円で連結子会社にすると発表しました。東京応化工業も今期の売上高の予想を3000億円に引き上げるなど、日本が強い半導体材料の分野で動きが相次いでいます。
東京応化、1〜9月の営業益44%増 通期予想を売上高3000億円に上方修正
東京応化工業の2026年1〜9月期の営業利益は460億円と前年同期比44.4%増え、売上高は25.9%増の2175億円でした。通期予想を売上高3000億円、営業利益635億円に引き上げ、3期続けて過去最高を見込みます。