KrF露光とは　波長248ナノメートルの光、キヤノンは2026年に66台を販売へ

KrF露光は、フッ化クリプトン（KrF）のエキシマレーザーを光源にした露光です。光の波長は248ナノメートルで、深紫外線（DUV）と呼ぶ光の一種です。水銀ランプのi線（365ナノメートル）の次の世代の光で、その後、先端の工程はArF（193ナノメートル）に移りました。

レーザーと化学増幅型レジスト

ASMLの説明では、エキシマレーザーはクリプトンとフッ素のガスを使って248ナノメートルの光を出します。最初のKrF装置は、当時のi線の装置の280ナノメートルから、150ナノメートルまで写せる寸法を縮めました。今のKrF装置は80ナノメートルまで写せます。

波長が短くなると、従来のレジストは光への感度が落ちます。このためKrFでは、光で生じた酸が連鎖的に反応する化学増幅型レジストが使われました。東京応化工業は1995年にKrF用のポジ型レジストを製品にし、1997年のKrF用は世界の標準品になったとしています。

各社の主なKrF露光装置（各社の製品情報から）

会社	機種	NA	解像度	処理能力
キヤノン	FPA-6300ES6a	0.86〜0.50	90nm以下	300枚/時以上
ニコン	NSR-S220D	0.82	110nm以下	―
ASML	TWINSCAN NXT:870B	―	―	400枚/時

キヤノンの処理能力は、オプションを付け、300mmウエハーを96ショットで写す条件。

今も年に数十台が出る

KrFは、最先端の層では使われなくなっても、細かさがそれほど要らない層などで今も使われています。東京応化工業は、2025年の出荷量でKrF用レジストの世界シェアが33.3%で1位だとしています（富士キメラ総研の調査をもとに同社が計算）。

キヤノンの2026年の半導体露光装置の販売見通しは221台で、うちKrFは66台です。前回の見通しの70台からは4台減らしました。7〜9月期のKrFの販売は14台でした。キヤノンは、i線より単価の高いKrFの装置が、AI関連の需要でメモリー向けを中心に大きく伸びたと説明しています。10〜12月期の露光装置の販売は87台に増やす計画です。ASMLも、2026年1〜6月にKrFの装置を65台、7億7,260万ユーロ販売しました。前年同期の38台から増えています。キヤノンのKrF装置は、200mmと300mmのウエハーのどちらにも対応する作りです。ニコンのKrF装置にも、200mmと300mmに対応する機種があります。

関連する用語

• エキシマレーザー：ガスを使って紫外線を出すレーザー。KrFとArFがあります。
• 化学増幅型レジスト：光で生じた酸が触媒になるレジスト。KrFから主力になりました。
• i線露光：水銀ランプの波長365nmの光を使う露光。