塗布現像装置の市場　東京エレクトロンが首位、EUV向けは同社推定で100%　新規装置売上の28%

塗布現像装置は、露光装置の前と後ろの仕事を受け持つ装置です。露光の前にウエハーにレジスト（感光剤）を薄く均一に塗って焼き固め、露光装置に渡します。露光が終わったウエハーを受け取り、熱を加えた後に現像液で模様を浮かび上がらせます。露光装置と1本の線でつなぐため、露光装置の台数が増えれば塗布現像装置の需要も増えます。

装置の中の工程

塗布現像装置が受け持つ主な工程

順番	工程	中身
1	前処理	レジストがはがれないよう表面を整える
2	塗布	ウエハーを回してレジストを均一な厚さに広げる
3	焼き固め	熱を加えて溶剤を飛ばす
4	（露光）	露光装置で回路の模様を写す
5	露光後の加熱	光で生じた化学反応を進める
6	現像	現像液で不要なレジストを溶かして模様を出す

EUV露光では、光の量が少なくても反応するレジストを使い、模様の線幅はさらに細くなります。膜の厚さのわずかな差や、加熱の温度のむらが仕上がりに響くため、装置の制御の精度が問われます。

市場の構図

東京エレクトロンは2026年の統合報告書で、塗布現像装置の市場シェアを1位、EUV露光用の塗布現像装置のシェアを100%としています（いずれも同社推定）。EUV露光装置は蘭ASMLだけがつくっており、その横に並ぶ塗布現像装置を東京エレクトロンが一手に受け持つ形です。

同社の新規装置の売上に占める塗布現像装置の比率は、ここ数年で20%台後半から30%で動いています。

東京エレクトロンの新規装置の売上と塗布現像装置の比率

決算期	新規装置の売上（億円）	塗布現像装置の比率
2022年3月期	14,990	23%
2023年3月期	16,927	26%
2024年3月期	13,727	30%
2025年3月期	18,611	27%
2026年3月期	17,754	28%

2026年3月期の比率から計算すると、塗布現像装置の新規の売上は約4970億円です（計算）。

国内のもう1社、SCREENホールディングスの半導体製造装置の売上は洗浄装置が中心です。同社の資料では、2026年4〜9月の売上のうち枚葉式洗浄が約75%、バッチ式洗浄が約15%、塗布現像装置・FLA（閃光の熱処理）・その他が約10%でした。同じ期間の半導体製造装置の部門の売上は2513億円です。

需要の中身は、東京エレクトロンの四半期の数字にも表れます。2026年7〜9月期の新規装置の売上は7344億円で、前の期から38%増えました。用途別では、ロジックやファウンドリーなどの非メモリが56%、DRAMが34%、不揮発性メモリが10%でした。前年同期は非メモリが59%、DRAMが27%でした。

熊本の生産と足元

東京エレクトロンの塗布現像装置は、熊本県の拠点でつくっています。同社は2026年10月30日の決算説明会で、塗布現像装置と洗浄装置の事業部門が熊本地方の震災の影響に対応し、2026年4〜9月の売上高が前の半期から5割超増えたと説明しました。

会社全体の2026年7〜9月期の売上高は9350億円、営業利益は2953億円でした。2027年3月期は売上高3兆7000億円、営業利益1兆1690億円を見込みます。