イオン注入装置の市場　専業のアクセリスは10〜12月期に売上16%増を見込む　メモリとパワー向け

イオン注入装置は、ホウ素やリン、ヒ素などの原子をイオンにし、高い電圧で加速してシリコンのウエハーに打ち込む装置です。シリコンに電気を運ぶ性質を持たせる工程で、1つのチップをつくる間に何度も使います。打ち込んだ後は、熱処理の装置で結晶の乱れを直します。

装置の種類と用途

イオン注入装置の主な種類

種類	特徴	主な用途
大電流型	多くのイオンを浅く打ち込む	トランジスタの電極の部分
中電流型	少ない量を正確に打ち込む	トランジスタの性質の調整
高エネルギー型	高い電圧で深くまで打ち込む	イメージセンサー、パワー半導体、素子の分離
高温注入	ウエハーを熱しながら打ち込む	炭化ケイ素（SiC）のパワー半導体

メモリでは、セルを細かくするほど打ち込む位置と量の精度が問われます。パワー半導体では、厚い層に深く打ち込むための高エネルギー型や、硬いSiCに打ち込むための高温の装置が要ります。

主な供給元

装置をつくる会社は限られます。成膜やエッチングの装置と一緒にイオン注入装置も売るアプライドマテリアルズ、イオン注入の専業の米アクセリス、住友重機械工業の子会社の住友重機械イオンテクノロジー、日新電機の子会社の日新イオン機器が主な顔ぶれです。日新電機は住友電気工業のグループ会社です。

アプライドは部門別の装置の売上を公表しておらず、イオン注入装置の数字はわかりません。同社の半導体装置の部門の売上は、2026年8〜10月期に79億9600万ドルでした。

専業アクセリスの数字

アクセリスの2026年7〜9月期の売上は2億3780万ドルで、前年同期の2億1360万ドルから増えました。会計基準の売上総利益率は41.0%、純利益は3780万ドルです。ラッセル・ロウCEOは、装置の売上が前の期から増え、保守・部品などの事業は四半期の過去最高を更新したと説明しました。受注は強く増えたとしていますが、金額は示していません。

アクセリス・テクノロジーズの業績（百万ドル）

項目	2025年7〜9月	2026年7〜9月	2026年10〜12月（見通し）
売上	213.6	237.8	約275
営業利益（会計基準）	25.0	27.3	－
純利益	26.0	37.8	－
希薄化後1株利益（ドル）	0.83	1.21	約1.15

会計基準の営業利益率は11.5%で、前年同期の11.7%とほぼ同じでした。7〜9月期から、サービスの売上を分けて開示するのをやめています。同社は2025年10月1日に、米ビーコ・インスツルメンツとの合併の合意を発表しており、7〜9月期には取引と統合の費用を500万ドル計上しました。

今後の注目点

• アクセリスは2026年10〜12月期の会計基準の1株利益を約1.15ドルと見込んでいます。
• アプライドは2026年11月〜2027年1月期の売上を111億ドル（上下5億ドル）と見込んでいます。